第二十一章 真空镀膜（下）

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一小时后。

真空计示数达到5.2E-5帕，升温程序也进入第二阶段，一切正常。

十二分钟后。

温度示数达到400摄氏度，膜厚仪显示的实时蒸镀速率，在-0.01至0.01埃每秒之间波动，膜厚显示仍为0.00埃。

三分钟后。

温度示数继续增加，直至480摄氏度左右，蒸镀速率开始在0.00至0.03埃每秒之间波动。

当温度达到520摄氏度后，蒸镀速率维持在0.20至0.30埃每秒。

许秋先开启样品台旋转，在等待了约十秒钟后，同时打开样品挡板并将膜厚仪的膜厚计数器归零。

钙要蒸镀10纳米的厚度，也就是100埃。

待膜厚仪示数达到100埃时，许秋迅速关闭样品挡板。

随后，他将束源炉升温数控装置关闭，让束源炉自然降温。

最后，将膜厚仪的参数改为铝的参数。

半小时后。

束源炉的温度降低至77摄氏度。

许秋关闭钙的束源炉挡板，打开电流加热装置。

这个加热装置很简单，就是把电源、钨篓、电位器（类似于滑动变阻器）、保险丝、电流计连在一起，通过调节电位器，便可以改变电路中的电流大小。

许秋缓慢扭动电位器的旋钮，使电流计示数从0逐渐增加至18安培。

当电流达到16安培时，膜厚仪上蒸镀速率开始有了示数。

电流达到18安培后，许秋等待了几秒，然后同时打开样品挡板并清零膜厚仪的膜厚计数器。

蒸镀速率则先是从0.2、0.3迅速提升至3.0，随后迅速回落至1.8，之后缓缓下降至1.7，1.6埃每秒……

电流计的示数也会随着时间变化，忽上忽下。

每当其相较于18的偏离值超过1时，许秋就将其调至18。

铝的厚度要求是100纳米，也就是1000埃。

待膜厚仪示数达到1000埃时，许秋迅速按下样品挡板。

然后缓缓扭动电位器，将电流归零。

接着关闭超真空挡板阀，停止分子泵。

等待十分钟后，分子泵转速从27000r.p.m.降至0，关闭其开关。

最后，关闭机械泵，关闭总控台。

…………

“终于结束啦！”许秋长吁了一口气，感慨道。

“这么多操作，居然零失误，厉害呀！”陈婉清竖起了大拇指。

“这都是学姐教的好。”许秋道。

“行啦，别谦虚了，你的科研天赋我心里有数呢。

想想我当初学蒸镀，可是没少让魏老师头疼，不是忘记开空气泵，就是忘开挡板，甚至还有一次忘记放基片了。”陈婉清道。

听到最后一句，许秋没忍住笑了出来，然后看到学姐睁着大眼睛瞪着他，他赶紧把笑容收敛住，面色严肃的向手套箱走去。

他进入手套箱，旋开舱门上下的旋钮，开始拉舱门。

咦，舱门怎么拉不下来？

琢磨了一会儿，许秋懂了，因为蒸镀结束后，舱体内部还是真空状态。

于是他转头看学姐，可她似乎并没有主动解答的意思，还是瞪着他。

“这么记仇啊。”许秋心想。

他只好问道：“学姐，这个怎么弄？”

陈婉清指了指手套箱侧面，最后还是告诉了许秋：

“那边有一个接通氮气瓶的阀门，可以往蒸镀舱内充氮气。”

许秋走过去，果然发现一个阀门。

他轻轻旋开阀门，“嘶嘶”的气流声传来。

10秒后。

20秒后。

30秒后。

没什么动静啊。

“学姐，什么时候停下来呢？”许秋忍不住问道。

“继续放气。”陈婉清面无表情道。

“哦。”

40秒后。

50秒后。

60秒后，正当许秋打算再次发问时。

“砰！”